「Porotech」获得300万英镑种子轮融资

　　7月26日消息，英国多孔氮化镓 (GaN) 半导体材料技术研发商Porotech已于上月完成种子轮融资，本轮融资金额300万英镑，由专注于科技领域早期项目投资的Speedinvest领投，过往投资方 IQ Capital、Cambridge Enterprise、Martlet Capital 和 Cambridge Angels 跟投。Porotech成立于2018年4月，曾于2019年底完成首轮150万英镑融资。Porotech CEO兼联合创始人朱彤彤博士介绍，本轮融资将主要用于：进一步开发新产品，行业客户和业务拓展以及团队扩充。

　　Porotech最初创办于剑桥大学材料科学与冶金院系氮化镓中心，团队基于在氮化镓领域的研究积累，率先开发出可工业化量产的新型多孔氮化镓半导体材料，现阶段主要应用于MicroLED领域，未来结合Porotech的多孔氮化镓技术平台和解决方案，也将进一步拓展能源产品、激光器、量子光源、传感器等领域。